สืบค้นงานวิจัย
การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่างๆ ด้วยวิธีปัตเตอริง
จักรพันธ์ ถาวรธิรา - มหาวิทยาลัยบูรพา
ชื่อเรื่อง: การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่างๆ ด้วยวิธีปัตเตอริง
ชื่อเรื่อง (EN): A Study of The proper State for Material Coating by Sputtering Method
ผู้แต่ง / หัวหน้าโครงการ: จักรพันธ์ ถาวรธิรา
บทคัดย่อ: โครงการวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์หลักคือเพื่อศึกษาการเตรียมฟิล์มบางโดยวิธีการสปัตเตอริง สำหรับสารเคลือบชนิดต่างๆ ซึ่งเป็นโครงการต่อเนื่องจากปีแรก โดยเป็นการปรับปรุงระบบเคลือบฟิล์มบางการทดสอบอัตราเคลือบและความสม่ำเสมอของระบบ ซึ่งมีผลหารศึกษานี้คือ ได้ปรับปรุงระบบเคลือบเดิมซึ่งเป็นแบบ ดีซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง มาเป็นแบบ ดีซี อันบานซ์ แมกนีตรอน สปัตเตอริง ซึ่งมีส่วนประกอบสำคัญคือ ระบบสูญญากาศ ภาชนะสูญญากาศ คาโทดและเป้าสารเคลือบ ระบบน้ำหล่อเย็น ระบบจ่ายไฟ และระบบป้อนแก๊ส ภาชนะสูญญากาศทำจากเหล็กกล้าสแตนเลสทรงกระบอกมีปริมาตรปริมาณ 9.14 ลิตร คาโทดมีพื้นที่เป้าสารเคลือบแผ่นกลมขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 7.6 เซนติเมตร พร้อมคาโทดชีลด์ พร้อมติดตั้งแม่เหล็กชนิด NdFeB ไว้ด้านหลังเป้าสารเคลือบเพื่อให้สนามแม่เหล็กมีลักษณะไม่สมมาตรจึงใช้แม่เหล็กวางทั้งแกนกลาง และรอบนอกเป็นวงแหวน โดยสนามแม่เหล็กที่แกนกลางมีค่าประมาณ 1000 เกาส์ ส่วนบริเวณวงแหวนจะมีค่าประมาณ 90 เกาส์ ระบบหล่อน้ำเย็นใช้หล่อเย็นคาโทด เป้าสารเคลือบส่วนบนบนของเพลทวาวล์ของเครื่องสูบแพร่ไอระบบจ่ายไฟฟ้า เป็นระบบแปลงไฟฟ้ากระแสตรงแรงสูง แบบฟูลเวฟสามารถปรับโวลต์เตจ ช่วง 0-500 โวลต์ กระแสไฟฟ้าคงที่ ที่ 0-2 แอมป์ ระบบป้อนแก๊สควบคุมด้วยวาวล์เปิด-ปิด และควบคุมปริมาณแก๊สที่เข้าสู่ระบบที่แผ่นปิดบนและมีท่อนำแก๊สต่อเข้ากับคาโทดชีลด์จากการศึกษาระบบกระจายตัว ของการเคลือบของระบบพบว่ามีลักษณะเป็นวงกลมโดยที่บริเวณกลางเป้าฟิล์มที่ได้จะหนาที่สุด และเบาบางลงตามแนวรัศมี โดยระยะระหว่างเป้าสารเคลือบ-วัสดุรองรับที่เหมาะสมที่สุด 12 เซนติเมตรจากเป้าสารเคลือบ พื้นที่ที่ให้ฟิล์มสม่ำเสมอประมาณ 4X4 เซนติเมตร สำหรับอัตราการเคลือบพบว่าทองแดงมีอัตราการเคลือบสูงสุดคือ 0.047 ไมตรอนต่อนาที รองลงมาได้แก่อลูมิเนียม ทองและไทเทเนียมตามลำดับ จากการทดสอบเคลือบฟิล์มบางด้วยเป้าสารเคลือบ 4 ชนิด อลูมีเนียม ทอง ไททาเนียม และทองแดง พบว่าที่ระยะห่างระหว่างเป้าสารเคลือบและวัสดุรองรับเท่ากับ 12 เซนติเมตร สามารถเคลือบฟิล์มบางได้เมื่อใช้ความดันในช่วง 10 x10 ยกกำลัง-3 - 5x10 ยกกำลัง -3 มิลลิบาร์แต่ ความดันขณะเคลือบที่เหมาะสมที่สุดคือ 3x10 ยกกำลัง -3 มิลลิบาร์ โดยแรงดันไฟฟ้าที่ใช้ในการเคลือบจะอยู่ในช่วง 350-550 โวลต์ สำหรับสีคาโทดโกลว์ ขณะของสารเคลือบแต่ละชนิดจะแตกต่างกันโดยอลูมิเนียมจะมีสีฟ้าอมทา ทองจะมีสีฟ้าอมเทา ไททาเนียมจะมีสีฟ้าขาว ส่วนของทองแดงจะมีสีฟ้าอมเขียว ในส่วนของฟิล์มบางที่ได้พบว่าผลของการเคลือบที่เป็นน่าพอใจทั้งนี้เมื่อสังเกตด้วยสายตาพบว่าฟิล์มบางที่ได้มีสรที่แวววาว ซึ่งเป็นสีของเป้าสารเคลือบ และไม่ปรากฏสภาพหมองคล้ำของฟิล์มบางจากโลหะเหล่านี้ และเมื่อทดลองการยึดติดของฟิล์มบางโดยการเช็ดถูด้วยนิ้วมือ ขูดด้วยเล็บ พบว่าทั้งการเช็ดถูก และขูดด้วยเล็บไม่สามารถทำให้ฟิล์มบางที่ได้หลุดออก และเมื่อปล่อยทิ้งในอากาศพบว่าจะมีการเกิดออกไซด์เฉพาะฟิล์มทองแดงเท่านั้นส่วนฟิล์มบางทองแดงเท่านั้นส่วนฟิล์มบางอลูมีเนียม ทองและไททาเนียมจะยังคงสภาพเหมือนเดิม
บทคัดย่อ: ไม่พบข้อมูลจากหน่วยงานต้นทาง
ภาษา (EN): th
เอกสารแนบ: http://dcms.thailis.or.th/dcms/dccheck.php?Int_code=95&RecId=8954&obj_id=68746
เผยแพร่โดย: มหาวิทยาลัยบูรพา
คำสำคัญ: งานโลหะ
คำสำคัญ (EN): 671
เจ้าของลิขสิทธิ์: มหาวิทยาลัยบูรพา
รายละเอียด: โครงการวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์หลักคือเพื่อศึกษาการเตรียมฟิล์มบางโดยวิธีการสปัตเตอริง สำหรับสารเคลือบชนิดต่างๆ ซึ่งเป็นโครงการต่อเนื่องจากปีแรก โดยเป็นการปรับปรุงระบบเคลือบฟิล์มบางการทดสอบอัตราเคลือบและความสม่ำเสมอของระบบ ซึ่งมีผลหารศึกษานี้คือ ได้ปรับปรุงระบบเคลือบเดิมซึ่งเป็นแบบ ดีซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง มาเป็นแบบ ดีซี อันบานซ์ แมกนีตรอน สปัตเตอริง ซึ่งมีส่วนประกอบสำคัญคือ ระบบสูญญากาศ ภาชนะสูญญากาศ คาโทดและเป้าสารเคลือบ ระบบน้ำหล่อเย็น ระบบจ่ายไฟ และระบบป้อนแก๊ส ภาชนะสูญญากาศทำจากเหล็กกล้าสแตนเลสทรงกระบอกมีปริมาตรปริมาณ 9.14 ลิตร คาโทดมีพื้นที่เป้าสารเคลือบแผ่นกลมขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 7.6 เซนติเมตร พร้อมคาโทดชีลด์ พร้อมติดตั้งแม่เหล็กชนิด NdFeB ไว้ด้านหลังเป้าสารเคลือบเพื่อให้สนามแม่เหล็กมีลักษณะไม่สมมาตรจึงใช้แม่เหล็กวางทั้งแกนกลาง และรอบนอกเป็นวงแหวน โดยสนามแม่เหล็กที่แกนกลางมีค่าประมาณ 1000 เกาส์ ส่วนบริเวณวงแหวนจะมีค่าประมาณ 90 เกาส์ ระบบหล่อน้ำเย็นใช้หล่อเย็นคาโทด เป้าสารเคลือบส่วนบนบนของเพลทวาวล์ของเครื่องสูบแพร่ไอระบบจ่ายไฟฟ้า เป็นระบบแปลงไฟฟ้ากระแสตรงแรงสูง แบบฟูลเวฟสามารถปรับโวลต์เตจ ช่วง 0-500 โวลต์ กระแสไฟฟ้าคงที่ ที่ 0-2 แอมป์ ระบบป้อนแก๊สควบคุมด้วยวาวล์เปิด-ปิด และควบคุมปริมาณแก๊สที่เข้าสู่ระบบที่แผ่นปิดบนและมีท่อนำแก๊สต่อเข้ากับคาโทดชีลด์จากการศึกษาระบบกระจายตัว ของการเคลือบของระบบพบว่ามีลักษณะเป็นวงกลมโดยที่บริเวณกลางเป้าฟิล์มที่ได้จะหนาที่สุด และเบาบางลงตามแนวรัศมี โดยระยะระหว่างเป้าสารเคลือบ-วัสดุรองรับที่เหมาะสมที่สุด 12 เซนติเมตรจากเป้าสารเคลือบ พื้นที่ที่ให้ฟิล์มสม่ำเสมอประมาณ 4X4 เซนติเมตร สำหรับอัตราการเคลือบพบว่าทองแดงมีอัตราการเคลือบสูงสุดคือ 0.047 ไมตรอนต่อนาที รองลงมาได้แก่อลูมิเนียม ทองและไทเทเนียมตามลำดับ จากการทดสอบเคลือบฟิล์มบางด้วยเป้าสารเคลือบ 4 ชนิด อลูมีเนียม ทอง ไททาเนียม และทองแดง พบว่าที่ระยะห่างระหว่างเป้าสารเคลือบและวัสดุรองรับเท่ากับ 12 เซนติเมตร สามารถเคลือบฟิล์มบางได้เมื่อใช้ความดันในช่วง 10 x10 ยกกำลัง-3 - 5x10 ยกกำลัง -3 มิลลิบาร์แต่ ความดันขณะเคลือบที่เหมาะสมที่สุดคือ 3x10 ยกกำลัง -3 มิลลิบาร์ โดยแรงดันไฟฟ้าที่ใช้ในการเคลือบจะอยู่ในช่วง 350-550 โวลต์ สำหรับสีคาโทดโกลว์ ขณะของสารเคลือบแต่ละชนิดจะแตกต่างกันโดยอลูมิเนียมจะมีสีฟ้าอมทา ทองจะมีสีฟ้าอมเทา ไททาเนียมจะมีสีฟ้าขาว ส่วนของทองแดงจะมีสีฟ้าอมเขียว ในส่วนของฟิล์มบางที่ได้พบว่าผลของการเคลือบที่เป็นน่าพอใจทั้งนี้เมื่อสังเกตด้วยสายตาพบว่าฟิล์มบางที่ได้มีสรที่แวววาว ซึ่งเป็นสีของเป้าสารเคลือบ และไม่ปรากฏสภาพหมองคล้ำของฟิล์มบางจากโลหะเหล่านี้ และเมื่อทดลองการยึดติดของฟิล์มบางโดยการเช็ดถูด้วยนิ้วมือ ขูดด้วยเล็บ พบว่าทั้งการเช็ดถูก และขูดด้วยเล็บไม่สามารถทำให้ฟิล์มบางที่ได้หลุดออก และเมื่อปล่อยทิ้งในอากาศพบว่าจะมีการเกิดออกไซด์เฉพาะฟิล์มทองแดงเท่านั้นส่วนฟิล์มบางทองแดงเท่านั้นส่วนฟิล์มบางอลูมีเนียม ทองและไททาเนียมจะยังคงสภาพเหมือนเดิม
หากไม่พบเอกสารฉบับเต็ม (Full Text) โปรดติดต่อหน่วยงานเจ้าของข้อมูล

การอ้างอิง

จักรพันธ์ ถาวรธิรา. "การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่างๆ ด้วยวิธีปัตเตอริงA Study of The proper State for Material Coating by Sputtering Method". มหาวิทยาลัยบูรพา. 2541

จักรพันธ์ ถาวรธิรา. "การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่างๆ ด้วยวิธีปัตเตอริงA Study of The proper State for Material Coating by Sputtering Method". มหาวิทยาลัยบูรพา. 2541. Print.



TARR Wordcloud:
การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่างๆ ด้วยวิธีปัตเตอริง
จักรพันธ์ ถาวรธิรา
มหาวิทยาลัยบูรพา
2541
ศึกษาสภาวะที่เหมาะสมของลูกแป้งสำหรับทำข้าวหมาก ฐานข้อมูลพืชสมุนไพรในมหาวิทยาลัยราชภัฏสวนดุสิตสำหรับผลิตภัณฑ์สุขภาพและความงาม การศึกษาการแปรรูปกระดาษเหลือใช้เป็นกระถางปลุกต้นกุหลาบหินชนิดเคลือบสารและไม่เคลือบสาร การศึกษาสภาวะการทำงานที่เหมาะสมของเครื่องระเหยแบบฟิล์มบางเพื่อการผลิตสารสกัดสะเดาผง การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับการทอดปลานิลโดยใช้เครื่องทอดสุญญากาศ สภาวะที่เหมาะสมเพื่อยืดอายุการเก็บรักษามะม่วงเขียวเสวยตัดแต่งพร้อมบริโภค การทดสอบถั่วเขียวพันธุ์ต่างๆ การพัฒนาผลิตภัณฑ์เทมเป้จากถั่วชนิดต่างๆ การเลี้ยงเนื้อเยื่อส่วนต่างๆ ของต้นกล้าแตงกวาบนอาหาร ที่มีสารเร่งการเจริญเติบโต 4 สูตร การเปรียบเทียบและคุณสมบัติบางประการของเห็ดหอมพันธุ์ต่างๆ
คัดลอก URL
กระทู้ของฉัน
ผลการสืบค้นทั้งหมด โพสต์     เรียงลำดับจาก
พัฒนาระบบโดยศูนย์ความรู้เฉพาะด้านวิศวกรรมความรู้และวิศวกรรมภาษาDeveloped by Center of Excellence for Unified Knowledge and Language Engineering
สนับสนุนโดยสำนักงานพัฒนาการวิจัยการเกษตร (องค์การมหาชน)Supported by the Agricultural Research Development Agency (Public Organization)
แบบสำรวจความพึงพอใจQuestionair