สืบค้นงานวิจัย
การพัฒนาเครื่องเคลือบฟิล์มบางบนผิวชิ้นงานภายใต้ความดันสุญญากาศโดยใช้ไมโครเวฟพลาสมา
ชูพงษ์ ภาคภูมิ - มหาวิทยาลัยแม่โจ้
ชื่อเรื่อง: การพัฒนาเครื่องเคลือบฟิล์มบางบนผิวชิ้นงานภายใต้ความดันสุญญากาศโดยใช้ไมโครเวฟพลาสมา
ชื่อเรื่อง (EN): Development of surface thin film coating system under vacuum pressure by microwave plasma
ผู้แต่ง / หัวหน้าโครงการ: ชูพงษ์ ภาคภูมิ
หน่วยงานสังกัดผู้แต่ง:
บทคัดย่อ: งานวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อพัฒนาเครื่องเคลือบฟิล์มบางคาร์บอนบนซิลิกอนด้วยไมโครเวฟพลาสมาภายใต้ความดันต่ำระบบใช้เตาไมโครเวฟในเชิงพาณิชย์เป็ นแหล่งของคลื่นไมโครเวฟเพื่อสร้างพลาสมา ห้องสุญญากาศทำจากแก้วบอโรซิลิเกตถูกลดความดันถึง 2?10-1 ปาสคาล ฟิล์มบางคาร์บอนถูกเคลือบบนผิวของซิลิกอนโดยอะเซทิลีนพลาสมาที่อัตราการไหลของก๊าซ 30 มิลลิลิตรต่อนาที ที่ความดันของห้องสุญญากาศ -70 เซนติเมตรปรอทอ่านค่าความดันโดยใช้เกจวัดความดันแบบเข็ม ใช้กำลังไมโครเวฟที่ 1,200 วัตต์เป็นเวลา 150 วินาที วิเคราะห์โดยรามานแสดงยอดคลื่น D-peak ที่ตำแหน่ง 1,336.20 cm-1และมียอดคลื่น G-peak ที่ตำแหน่ง1,611.87 cm-1 วิเคราะห์ธาตุเชิงพลังงานบ่งชี้ว่าฟิ ล์มที่ปลูกได้ประกอบด้วยธาตุคาร์บอน ลักษณะทางสัณฐานวิทยาของฟิล์มที่ได้เป็นกลุ่มก้อนของอนุภาคระดับนาโนเมตร ขนาดประมาณ 100 นาโนเมตร ตรวจสอบโดยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดและวัดความหนาของฟิล์มด้วยกล้องจุลทรรศน์แรงอะตอมได้ค่าเฉลี่ยเท่ากับ 200 นาโนเมตร มีความขรุขระที่ผิว 0.43 นาโนเมตร
บทคัดย่อ (EN): This work aims to develop a low pressure microwave plasma deposition system to coat carbon thin film on silicon substrate. The system used a commercial microwave oven as a microwave source to get plasma discharge. The vacuum pressure was achieved by two stage rotary vane vacuum pump which is capable of reaching ultimate pressure at 2?10-1 Pa under borosilicate chamber glass. The carbon thin films were successfully deposited on silicon substrate by pure acetylene plasma with gas flow rate 30 ml/min at total operating pressure of -70 cmHg reading by analog dial vacuum gauge, using microwave power at 1,200 Watts and deposit time of 150 seconds. Raman analysis showed peak at around 1336.20 cm-1 (D-peak) and 1611.87 cm-1 (G-peak). Energy Dispersive X-Ray analysis indicated that the deposited thin film compose of carbon atoms. The morphology of deposited film is a cluster of small particles with dimensions of about 100 nm investigated by scanning electron microscope and measured the film thickness by atomic force microscope, obtained 200 nm of average film thickness and 0.43 nm of surface roughness (Ra).
บทคัดย่อ: ไม่พบข้อมูลจากหน่วยงานต้นทาง
ภาษา (EN): th
เอกสารแนบ: http://researchex.rae.mju.ac.th/research60/library/ab/MJU1-58-006.pdf
เผยแพร่โดย: มหาวิทยาลัยแม่โจ้
คำสำคัญ: ซิลิกอน
คำสำคัญ (EN): Silicon
เจ้าของลิขสิทธิ์: มหาวิทยาลัยแม่โจ้
หากไม่พบเอกสารฉบับเต็ม (Full Text) โปรดติดต่อหน่วยงานเจ้าของข้อมูล

การอ้างอิง


TARR Wordcloud:
การพัฒนาเครื่องเคลือบฟิล์มบางบนผิวชิ้นงานภายใต้ความดันสุญญากาศโดยใช้ไมโครเวฟพลาสมา
มหาวิทยาลัยแม่โจ้
2558
การพัฒนาเครื่องกัดผิวชิ้นงานภายใต้ความดันสุญญากาศโดยใช้ไมโครเวฟพลาสมาสำหรับผลิตอุปกรณ์เครื่องกำเนิดไฟฟ้าจากความร้อนเทอร์โมอิเล็คตริก การลดความชื้นน้ำผึ้งลำไยด้วยไมโครเวฟภายใต้สภาวะสุญญากาศ ชุดเครื่องมือทำหญ้าหมักแบบสุญญากาศ การออกแบบและสร้างเครื่องเคลือบฟิล์มบางแบบพลาสมาสปัตเตอริง การพัฒนาชุดอุปกรณ์สำหรับการศึกษาระบบการอบแห้งด้วยคลื่นไมโครเวฟภายใต้สภาวะสุญญากาศ : กรณีศึกษาจลนพลศาสตร์การอบแห้งสาหร่ายเตาด้วยวิธีการอบแห้งด้วยคลื่นไมโครเวฟภายใต้สภาวะสุญญากาศ ประสิทธิภาพการย่อยสลายด้วยแสงของสารประกอบอินทรีย์โดยใช้วัสดุคอมโพสิต บิสมัธวานาเดต/ซิลิกอนไดออกไซด์ และกราฟีนเป็นตัวเร่งปฏิกิริยา การสังเคราะห์ตัวเร่งปฏิกิริยาวัสดุผสมระหว่างบิสมัทวานาเดตและซิลิกอนไดออกไซด์ ทีมีประสิทธิภาพสูงในการดูดซับและใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง การเตรียมฟิล์มแป้งมันสำปะหลังเสริมแรงด้วยเซลลูโลสจากต้นกล้าข้าวเหนียวสันป่าตองเพื่อพัฒนาใช้ในงานบรรจุภัณฑ์ที่ย่อยสลายได้ทางชีวภาพ ผลของการเรียนรู้โดยใช้ชุมชนเป็นฐานในงานเครื่องปั้นดินเผาสังคโลกสุโขทัย การพัฒนาต้นแบบผู้นำการเมืองสีเขียวภายใต้หลักการกระจายอำนาจ
คัดลอก URL
กระทู้ของฉัน
ผลการสืบค้นทั้งหมด โพสต์     เรียงลำดับจาก