สืบค้นงานวิจัย
ผลของเฟสในวัสดุเป้าต่อการเคลือบไททาเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ โดยวิธีตกเคลือบด้วยไอทางกายภาพแบบแคโทดิกอาร์ก
ไชยวัฒน์ โชควัฒน์วิกุล - มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
ชื่อเรื่อง: ผลของเฟสในวัสดุเป้าต่อการเคลือบไททาเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ โดยวิธีตกเคลือบด้วยไอทางกายภาพแบบแคโทดิกอาร์ก
ชื่อเรื่อง (EN): The Effect of Phase in Target Material on Deposition of Titanium Aluminum Nitride by Cathodic Arc Physical Vapor Deposition
ผู้แต่ง / หัวหน้าโครงการ: ไชยวัฒน์ โชควัฒน์วิกุล
บทคัดย่อ: ผิวเคลือบแข็งถูกประยุกต์ใช้งานหลากหลายในทางอุตสากรรม เช่น มีการเคลือบลงบนเครื่องมือตัด แม่พิมพ์ เนื่องจากผิวเคลือบช่วยลดการสึกหรอของชิ้นส่วนต่างๆ ผิวเคลือบ Ti-AI-N (Titanium Aluminum Nitride) มีความแข็งสูงและทนอุณหภูมิสูงกว่าผิวเคลือบ Ti-N ที่ใช้อย่างแพร่หลายใน เครื่องมือตัดเจาะช่วยเพิ่มความทนทานต่อ การสึกหรอและเพิ่มอายุการใช้งานของเครื่องมือ ผิวเคลือบชนิดธาตุผสมที่เตรียมจากวัสดุเป้าในรูปสารประกอบมีลำดับ ขั้นตอนกระบวนการเคลือบที่ซับซ้อนน้อยกว่าการเตรียมโดยใช้วัสดุเป้าที่เป็นธาตุเดี่ยวดังนั้นวัสดุเป้าในรูปสารประกอบ จึงเหมาะกับการใช้งาน การเตรียมผิวเคลือบ Ti-A1-N โดยวิธี PVD Cathodic Arc ในงานวิจัยนี้วัสดุเป้าที่ใช้คือ Ti-A1 โดย มีอัตรส่วน ไททาเนียมต่อละลูมิเนียมเท่ากันคือร้อยละ 50 โดยอะตอม วัสดุเป้าที่ใช้มี 2 ชนิดคือ Low - temperature Sintered Target (LT) และ High - temperature Sintered Targed (HT) ซึ่งมีเฟสองค์ประกอบที่ต่างกัน การเคลือบจะใช้เหล็กกล้ากลุ่ม เครื่องมืองานเย็บ (SKD 11) เป็นแผ่นรองเคลือบทำการเคลือบชั้น Ti-N เป็นชั้นกึ่งกลางและเคลือบ Ti-A1-N เป็นชั้นบนสุดและศึกษา ผลของแรงดันแก๊สไนโตรเจนที่ 1 1.5 และ 2 ปาสกาล ต่อสมบัติของผิวเคลือบเมื่อวิเคราะห์โดยเทคนิค XRD พบ โครงสร้างเฟส Ti-0.5 A1 0.5 N ในทุกสภาวะการเคลือบและความหนาของผิวเคลือบทดสอบโดยวิธี Calotest อยู่ในช่วง 1.9-3.5 ไมโครรเมตร ผลของวัสดุเป้า Ti-AI ที่มีองค์ประกอบทางเคมีเหมือนกัน แต่มีโครงสร้างเฟสต่างกัน และผลของแรงดันแก๊สไนโตรเจนในช่วง 1 1.5 และ 2 ปาสกาล ไม่มีผลอย่างเด่นชัดต่อ ความหนาของผิวเคลือบ และการยึดเกาะโดย Rockwell C โดยผิวเลือบที่ให้สมบัติทางกล ดีที่สุด คือ มีความแข็งสูง ทนทานต่อการขูดขีด และมีสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำ มีอัตราการสึกหรอของผิวเคลือบต่ำคือ ผิวเคลือบเตรียมโดยใช้วัสดุเป้า High - temperature Sintered Target (HT) ที่สภาวะแรงดันแก๊สไนโตรเจน 1.5 ปาสกาล
บทคัดย่อ (EN): The hard thin films are utilized to industrial applications such as cutting tools, molding dies and sliding parts, because it can reduce wear of these parts. Ti-AI-N (Titanium Aluminum Nitride) possesses higher hardness and high temperature resistance compared with those of Ti-N, It is widely applied for hard coating to extend the life of machining tools. Ti-AI-N is one type of metal alloy films, which can be prepared by PVD using compound target or two single-metal targets. It is known that preparing metal alloy films using compound target is easier to control film properties in PVD cathodic arc system than using two single-metal targets. In this research, two type of Ti-Al targets Low-temperature Sintered Target (LT) and High-temperature Sintered Target (HT), which have different types of phase structure but the same composition of 50 at% titanium and 50 at% aluminum, were used. The cold tool steel (SKDll) was used as the substrate for film coating, Ti-N and Ti-AI-N films were deposited as intermediate and top layers, respectively. Three different N2 gas pressures of 1, 1.5, 2 Pa were varied. It was found that XRD results indicated TiosAlosN phase for all films, prepared by different condition and the films thickness measured from Calotest were in the range of 1.9-3.5 urn. The phase difference of both targets and the change of N2 gas pressure in depositing condition insignificantly effect on film thickness and Rockwell C adhesion strength. The film that prepared from High-temperature Sintered Target (HT) at N2 pressure of 1.5 Pa has the best mechanical properties of hardness, wear and scratch resistance, and low friction coefficient.
บทคัดย่อ: ไม่พบข้อมูลจากหน่วยงานต้นทาง
ภาษา (EN): th
เผยแพร่โดย: มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
คำสำคัญ: ผิวเคลือบ Ti-A1-N/PVD
เจ้าของลิขสิทธิ์: มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
รายละเอียด: The hard thin films are utilized to industrial applications such as cutting tools, molding dies and sliding parts, because it can reduce wear of these parts. Ti-AI-N (Titanium Aluminum Nitride) possesses higher hardness and high temperature resistance compared with those of Ti-N, It is widely applied for hard coating to extend the life of machining tools. Ti-AI-N is one type of metal alloy films, which can be prepared by PVD using compound target or two single-metal targets. It is known that preparing metal alloy films using compound target is easier to control film properties in PVD cathodic arc system than using two single-metal targets. In this research, two type of Ti-Al targets Low-temperature Sintered Target (LT) and High-temperature Sintered Target (HT), which have different types of phase structure but the same composition of 50 at% titanium and 50 at% aluminum, were used. The cold tool steel (SKDll) was used as the substrate for film coating, Ti-N and Ti-AI-N films were deposited as intermediate and top layers, respectively. Three different N2 gas pressures of 1, 1.5, 2 Pa were varied. It was found that XRD results indicated TiosAlosN phase for all films, prepared by different condition and the films thickness measured from Calotest were in the range of 1.9-3.5 urn. The phase difference of both targets and the change of N2 gas pressure in depositing condition insignificantly effect on film thickness and Rockwell C adhesion strength. The film that prepared from High-temperature Sintered Target (HT) at N2 pressure of 1.5 Pa has the best mechanical properties of hardness, wear and scratch resistance, and low friction coefficient.
หากไม่พบเอกสารฉบับเต็ม (Full Text) โปรดติดต่อหน่วยงานเจ้าของข้อมูล

การอ้างอิง

ไชยวัฒน์ โชควัฒน์วิกุล. "ผลของเฟสในวัสดุเป้าต่อการเคลือบไททาเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ โดยวิธีตกเคลือบด้วยไอทางกายภาพแบบแคโทดิกอาร์กThe Effect of Phase in Target Material on Deposition of Titanium Aluminum Nitride by Cathodic Arc Physical Vapor Deposition". มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี. 2555

ไชยวัฒน์ โชควัฒน์วิกุล. "ผลของเฟสในวัสดุเป้าต่อการเคลือบไททาเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ โดยวิธีตกเคลือบด้วยไอทางกายภาพแบบแคโทดิกอาร์กThe Effect of Phase in Target Material on Deposition of Titanium Aluminum Nitride by Cathodic Arc Physical Vapor Deposition". มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี. 2555. Print.



TARR Wordcloud:
ผลของเฟสในวัสดุเป้าต่อการเคลือบไททาเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ โดยวิธีตกเคลือบด้วยไอทางกายภาพแบบแคโทดิกอาร์ก
ไชยวัฒน์ โชควัฒน์วิกุล
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
2555
อิทธิพลของความหนาผิวเคลือบพอลิยูริเทนและปริมาณผงไททาเนียมไดออกไซด์ในผิวเคลือบที่มีต่อสมบัติการถ่ายเทความร้อนของผลิตภัณฑ์หลังคายางจากวัสดุผสมยางธรรมชาติและขี้เลื่อยไม้ การเก็บรักษาเห็ดนางรม (Pleurouts ostreatus (Fr.)Keummer) หลังการเก็บเกี่ยวด้วยโฟโตคาตาไลซิสจากหลอดไฟเคลือบไททาเนียมไดออกไซด์ การทำกระเบื้องปูพื้นชนิดเคลือบจากวัสดุเหลือใช้อุตสาหกรรม ประสิทธิภาพในการลดไนเทรต ไนไทรด์ แอมโมเนียและฟอสเฟต ในบ่อเลี้ยงกุ้งกุลาดำระบบปิด โดยแบคทีเรียผสม การพัฒนาแผ่นกรองอนุภาคชนิดต่าง ๆ เพื่อการกำจัด Aspergillus niger โดยการใช้ไททาเนียมไดออกไซด์ ฟิล์มที่บริโภคได้สำหรับเคลือบผลิตภัณฑ์ผลไม้สด ผลของเซลฟ์เอทชิ่งต่อการรั่วซึมของวัสดุเคลือบหลุมร่องฟันในภาวะที่มีและไม่มีน้ำลายปนเปื้อน การปรับปรุงคุณภาพกระดาษด้วยสารเคลือบซิลิกาที่สกัดจากแกลบข้าว คุณภาพของการเตรียมคลองรากฟันด้วยนิกเกิลไททาเนียมไฟล์ในรากด้านแก้มใกล้กลางของฟันกรามล่าง การใช้ประโยชน์ของเถ้าลอยลิกไนต์เพื่อทดแทนวัสดุปูนและการลดแอมโมเนียและไนไตรต์ในน้ำจากบ่อเลี้ยงกุ้ง
คัดลอก URL
กระทู้ของฉัน
ผลการสืบค้นทั้งหมด โพสต์     เรียงลำดับจาก
พัฒนาระบบโดยศูนย์ความรู้เฉพาะด้านวิศวกรรมความรู้และวิศวกรรมภาษาDeveloped by Center of Excellence for Unified Knowledge and Language Engineering
สนับสนุนโดยสำนักงานพัฒนาการวิจัยการเกษตร (องค์การมหาชน)Supported by the Agricultural Research Development Agency (Public Organization)
แบบสำรวจความพึงพอใจQuestionair